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Advanced processes for 193-nm immersion lithography / Yayi Wei; Robert L. Brainard
Mitwirkende(r): Resource type: Ressourcentyp: BuchBuchSprache: Englisch Verlag: Bellingham, Wash : SPIE Press, 2009Beschreibung: XIX, 315 S. : graph. DarstISBN:- 9780819475572
- 621.381531
- TK7872.M3
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| Medientyp | Heimatbibliothek | Sammlung | Standort | Signatur | Status | Barcode | |
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| Freihandbestand ausleihbar | Bibliothek Campus Süd | nach 8.23 | Lesesaal Technik (LST) | 2009 E 1444 | Verfügbar | 50006053090 |
Anzahl Vormerkungen: 0
Archivierung prüfen 20200919 DE-640 1 pdager