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Advanced processes for 193-nm immersion lithography / Yayi Wei; Robert L. Brainard

Von: Mitwirkende(r): Resource type: Ressourcentyp: BuchBuchSprache: Englisch Verlag: Bellingham, Wash : SPIE Press, 2009Beschreibung: XIX, 315 S. : graph. DarstISBN:
  • 9780819475572
Schlagwörter: DDC-Klassifikation:
  • 621.381531
LOC-Klassifikation:
  • TK7872.M3
Bearbeitungsvermerk:
  • 1
Call number: Grundsignatur: 2009 E 1444PPN: PPN: 1624353975
Exemplare
Medientyp Heimatbibliothek Sammlung Standort Signatur Status Barcode
Freihandbestand ausleihbar Bibliothek Campus Süd nach 8.23 Lesesaal Technik (LST) 2009 E 1444 Verfügbar 50006053090
Anzahl Vormerkungen: 0

Archivierung prüfen 20200919 DE-640 1 pdager