Optical and EUV Nanolithography XXXVII : 26-29 February 2024, San Jose, California, United States / Martin Burkhardt, Claire van Lare (editors) ; sponsored by: SPIE
Mitwirkende(r): Resource type: Ressourcentyp: Buch (Online)Buch (Online)Sprache: Englisch Reihen: SPIE. Proceedings of SPIE ; volume 12953 | SPIE. Proceedings of SPIE ; volume PC12953Verlag: Bellingham, Washington, USA : SPIE, [2024]Beschreibung: 2 Online-Ressourcen : IllustrationenISBN:- 9781510672130
- SPIE Advanced Lithography Patterning
Dieser Titel hat keine Exemplare