Patentgesetz, Gebrauchsmustergesetz : Kommentar / von Prof. Dr. Peter Mes (Rechtsanwalt in Düsseldorf, Honorarprofessor an der Universität Münster) ; mit einem Beitrag von Axel Verhauwen (Rechtsanwalt in Düsseldorf (Anhang zu § 14))

By: Contributor(s): Resource type: Ressourcentyp: Buch (Online)Book (Online)Language: German Series: Beck-online BücherPublisher: München : C.H. Beck, 2024Copyright date: © 2024Edition: 6., neubearbeitete AuflageDescription: 1 Online-RessourceOther title:
  • Kurztitel: PatG, GebrMG
  • Zitiervorschlag: Mes PatG
  • Abweichender Titel: Mes, Patentgesetz Gebrauchsmustergesetz
Subject(s): Genre/Form: Additional physical formats: 9783406825958 | Erscheint auch als: Patentgesetz, Gebrauchsmustergesetz. Druck-Ausgabe 6., neubearbeitete Auflage. München : C.H. Beck, 2024. XXXIII, 1940 SeitenDDC classification:
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RVK: RVK: PE 700 | PE 710 | PE 720Online resources: PPN: PPN: 1908389222Package identifier: Produktsigel: ZDB-18-BEO | ZDB-18-BOH | ZDB-18-BRB | ZDB-18-BGRP
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