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Halbleiterätzverfahren : Kinetik, Verfahrensgrundlagen und Anwendungsgebiete von naßchemischen Ätzverfahren für Si, GaAs, GaP und InP ; mit 9 Tabellen / Hans Löwe; Peter Keppel; Dietrich Zach. Unter Mitarb. von Corinna Moritz
Contributor(s): Resource type: Ressourcentyp: BuchBookLanguage: German Publisher: Berlin : Akademie-Verl., 1990Description: 167 S. : Ill., graph. Darst. ; 22 cmISBN:- 3055007069
Contents:
Call number: Grundsignatur: 91 A 684PPN: PPN: 019560826
| Item type | Home library | Shelving location | Call number | Status | Barcode | |
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| Magazinbestand ausleihbar | Bibliothek Campus Süd | Geschlossenes Magazin | 91 A 684 | Available | 48865607090 |
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