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Handbook of chemical vapor deposition (CVD) : principles, technology and applications / by Hugh O. Pierson
Resource type: Ressourcentyp: BuchBuchSprache: Englisch Reihen: Materials science and process technology series Electronic materials and process technologyVerlag: Park Ridge, NJ : Noyes Publ., c 1992Beschreibung: XXII, 436 S : Ill., graph. DarstISBN:- 0815513003
- 671.7/35 20
- 671.735
- TS695
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| Medientyp | Heimatbibliothek | Sammlung | Standort | Signatur | Status | Barcode | |
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| Freihandbestand Präsenznutzung | Fachbibliothek Physik | phys 8.71 | Bibliothek / frei aufgestellt | 93 A 3797 | Nicht ausleihbar | 33163347 |
Anzahl Vormerkungen: 0
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