Abscheidung metastabiler Ti 1-x Al x N-Schichten nach dem plasmagestützten CVD-Verfahren / Robert Prange
Resource type: Ressourcentyp: BuchBookLanguage: German Series: Verein Deutscher Ingenieure. Fortschrittberichte VDI / 5 ; 576Publisher: Düsseldorf : VDI-Verl., 2000Edition: Als Ms. gedrDescription: VI, 80 S : Ill., graph. DarstISBN:- 3183576058
- Nebent.: PECVD-Abscheidung von (Ti,Al)N-Schichten
- Ti1-xAlxN-Schichten
- Ti1-xAlxN
- PECVD-Abscheidung von (Ti,Al)N-Schichten
- 667.9
- 2
| Item type | Home library | Shelving location | Call number | Status | Barcode | |
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| Magazinbestand ausleihbar | Bibliothek Campus Süd | Geschlossenes Magazin | 2000 B 90 | Available | 09042920149 |
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