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Abscheidung metastabiler Ti 1-x Al x N-Schichten nach dem plasmagestützten CVD-Verfahren / Robert Prange

By: Resource type: Ressourcentyp: BuchBookLanguage: German Series: Verein Deutscher Ingenieure. Fortschrittberichte VDI / 5 ; 576Publisher: Düsseldorf : VDI-Verl., 2000Edition: Als Ms. gedrDescription: VI, 80 S : Ill., graph. DarstISBN:
  • 3183576058
Other title:
  • Nebent.: PECVD-Abscheidung von (Ti,Al)N-Schichten
  • Ti1-xAlxN-Schichten
  • Ti1-xAlxN
  • PECVD-Abscheidung von (Ti,Al)N-Schichten
Subject(s): Genre/Form: DDC classification:
  • 667.9
RVK: RVK: UP 7560Action note:
  • 2
Dissertation note: Zugl.: Aachen, Rheinisch-Westfälische Techn. Hochsch., Diss. Call number: Grundsignatur: 2000 B 90PPN: PPN: 309732298
Holdings
Item type Home library Shelving location Call number Status Barcode
Magazinbestand ausleihbar Bibliothek Campus Süd Geschlossenes Magazin 2000 B 90 Available 09042920149
Total holds: 0

Archivierung prüfen 20200919 DE-640 2 pdager