Ion implantation, sputtering and their applications / P. D. Townsend; J. C. Kelly; N. E. W. Hartley
Mitwirkende(r): Resource type: Ressourcentyp: BuchBuchSprache: Englisch Verlag: London [u.a.] : Acad. Pr., 1976Beschreibung: IX, 333 S. : Ill., graph. DarstISBN:- 0126969507
- 539.754
- 530.4/1
- QC702.7.I55
| Medientyp | Heimatbibliothek | Sammlung | Standort | Signatur | Exemplarnummer | Status | Barcode | |
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| Magazinbestand ausleihbar | Bibliothek Campus Süd | Geschlossenes Magazin | 77 A 169 | Verfügbar | 47661966090 | |||
| Freihandbestand Präsenznutzung | Fachbibliothek Physik | phys 7.14 | Bibliothek / frei aufgestellt | 77 A 169 | ;b | Nicht ausleihbar | 23168884 | |
| Institutsbestand | IMS | To | Nicht ausleihbar |
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