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Entwicklung eines maskenlosen Fotolithographiesystems zum Einsatz im Rapid Prototyping in der Mikrofluidik und zur gezielten Oberflächenfunktionalisierung / von Ansgar Waldbaur

Von: Resource type: Ressourcentyp: Buch (Online)Buch (Online)Sprache: Deutsch Reihen: Institut für Mikrostrukturtechnik. Schriften des Instituts für Mikrostrukturtechnik am Karlsruher Institut für Technologie ; 19Verlag: Karlsruhe : KIT Scientific Publishing, 2013Beschreibung: Online-RessourceISBN:
  • 9783731501190
Schlagwörter: Genre/Form: Andere physische Formen: Erscheint auch als: Entwicklung eines maskenlosen Fotolithographiesystems zum Einsatz im Rapid Prototyping in der Mikrofluidik und zur gezielten Oberflächenfunktionalisierung. Druck-Ausgabe Karlsruhe : KIT Scientific Publishing, 2013. XII, 186 S. | Erscheint auch als: Entwicklung eines maskenlosen Fotolithographiesystems zum Einsatz im Rapid Prototyping in der Mikrofluidik und zur gezielten Oberflächenfunktionalisierung. Druck-Ausgabe Print on demand. Karlsruhe, Baden : KIT Scientific Publishing, 2013. XVI, 163 SDDC-Klassifikation:
  • 620
  • 670
DOI: DOI: 10.5445/KSP/1000036845Online-Ressourcen: Notes: Anmerkungen: Elektronische RessourceNote: Hinweis: Elektronische RessourceBearbeitungsvermerk:
  • Archivierung/Langzeitarchivierung gewährleistet DISS
Hochschulschriftenvermerk: Zugl.: Karlsruhe, KIT, Diss., 2013 PPN: PPN: 773791930Package identifier: Produktsigel: H-GBV-ODiss | H-ZDB-104-KIT
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