Photomask Technology 2018 : 17-19 September 2018, Monterey, California, United States / Emily E. Gallagher, Jed H. Rankin (editors) ; published by: SPIE

Von:

Photomask Technology (Veranstaltung) : (2018 : Monterey, Calif.) [VerfasserIn]

Mitwirkende(r):

Gallagher, Emily E [HerausgeberIn]
Rankin, Jed H [HerausgeberIn]
SPIE [Herausgebendes Organ]

Resource type: Ressourcentyp: Buch (Online)Buch (Online)Sprache: Englisch Reihen: SPIE. Proceedings of SPIE ; volume 10810Verlag: Bellingham, Washington, USA : SPIE, [2018]Beschreibung: 1 Online-Ressource : IllustrationenISBN:

9781510622166

Weitere Titel:

EUV SPIE Extreme Ultraviolet Lithography Conference

Schlagwörter:

Maskentechnik
Fotolithografie Halbleitertechnologie

Genre/Form:

Konferenzschrift

Andere physische Formen: 9781510622159 Online-Ressourcen:

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Zugang im Netz der HKA

PPN: PPN: 103469829XPackage identifier: Produktsigel: ZDB-1-SPIE

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