Emerging Patterning Technologies : 27 February-1 March 2017, San Jose, California, United States / Christopher Bencher (editor) ; published by: SPIE

Von:

Emerging Patterning Technologies (Veranstaltung) : (2017 : San Jose, Calif.) [VerfasserIn]

Mitwirkende(r):

Bencher, Christopher [HerausgeberIn]
SPIE [Herausgebendes Organ]

Resource type: Ressourcentyp: Buch (Online)Buch (Online)Sprache: Englisch Reihen: SPIE. Proceedings of SPIE ; volume 10144Verlag: Bellingham, Washington, USA : SPIE, [2017]Beschreibung: 1 Online-Ressource : IllustrationenISBN:

9781510607408

Weitere Titel:

SPIE Advanced Lithography

Schlagwörter:

Nanolithografie
Selbstorganisation

Genre/Form:

Konferenzschrift

Andere physische Formen: 9781510607392 | Erscheint auch als: Emerging Patterning Technologies. Druck-Ausgabe Bellingham, Washington, USA : SPIE, 2017. circa 160 verschieden gezählte SeitenOnline-Ressourcen:

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PPN: PPN: 1042493375Package identifier: Produktsigel: ZDB-1-SPIE

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