Patentgesetz und Gebrauchsmustergesetz : vom 2. Januar 1968; systematischer Kommentar / begr. v. Eduard Reimer. Neu bearb. v. Karl Nastelski ...
Mitwirkende(r): Resource type: Ressourcentyp: BuchBuchSprache: Deutsch Verlag: Köln ; Berlin ; Bonn ; München : Heymanns, 1968Auflage: 3. erw. AuflBeschreibung: XXX, 2505 SWeitere Titel:- Patentgesetz
- Gebrauchsmustergesetz
| Medientyp | Heimatbibliothek | Standort | Signatur | Status | Barcode | |
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| Magazinbestand ausleihbar | Bibliothek Campus Süd | Geschlossenes Magazin | IV A 7199(3) | Verfügbar | 48971217090 |
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