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Glow discharge processes : sputtering and plasma etching / Brian Chapman
Resource type: Ressourcentyp: BuchBuchSprache: Englisch Reihen: A Wiley interscience publicationVerlag: New York, NY [u.a.] : Wiley, 1980Beschreibung: XV, 406 S. : graph. DarstISBN:- 9780471078289
- 047107828X
- 537.5/2
- 537.52
- QC702.7.P6
| Medientyp | Heimatbibliothek | Sammlung | Standort | Signatur | Exemplarnummer | Status | Barcode | |
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| Freihandbestand ausleihbar | Bibliothek Campus Nord | werk 2.1 | Lesesaal CN | 80 A 4214 | ;b | Verfügbar | 50574265090 | |
| Magazinbestand ausleihbar | Bibliothek Campus Süd | Geschlossenes Magazin | 80 A 4214 | Verfügbar | 45724166090 |
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