Materials for microlithography : radiation-sensitive polymers ; based on a symposium cosponsored by the Division of Polymeric Materials Science and Engineering and the Division of Polymer Chemistry at the 187th Meeting of the American Chemical Society, St. Louis, Missouri, April 8 - 13, 1984 / L. F. Thompson, ed. ...

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Resource type: Ressourcentyp: BuchBuchSprache: Englisch Reihen: American Chemical Society. ACS symposium series ; 266Verlag: Washington, DC : American Chemical Society, 1984Beschreibung: VIII, 494 S : Ill., graph. DarstISBN:

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Call number: Grundsignatur: 85 A 228PPN: PPN: 025272934

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Medientyp	Heimatbibliothek	Standort	Signatur	Status	Fälligkeitsdatum	Barcode	Vormerkungen
Magazinbestand ausleihbar	Bibliothek Campus Süd	Geschlossenes Magazin	85 A 228	Verfügbar		47669562090

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