Halbleitertechnologien für Großintegration : Gasätztechnik und Hochdruckoxidationen / von Konrad Eisele ; Fraunhofer-Institut für Angewandte Festkörperphysik (IAF). Bundesministerium für Forschung und Technologie

By: Contributor(s): Resource type: Ressourcentyp: BuchBookLanguage: German Series: Deutschland Forschungsbericht / T ; 81-115Publisher: Eggenstein-Leopoldshafen : Fachinformationszentrum Energie, Physik, Mathematik Karlsruhe, 1981Edition: Als Ms. gedrDescription: 99 S : Ill., graph. DarstReport number: BMFT-FB-T-81-115Other title:
  • Parallelt.: Semiconductor technology for VLSI - plasma etching and high pressure oxidation
  • Semiconductor technology for VLSI - plasma etching and high pressure oxidation
Subject(s): Genre/Form: Action note:
  • 2
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Call number: Grundsignatur: ZE 5324-1981,115.1981PPN: PPN: 01382483X
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