Halbleitertechnologien für Großintegration : Gasätztechnik und Hochdruckoxidationen / von Konrad Eisele ; Fraunhofer-Institut für Angewandte Festkörperphysik (IAF). Bundesministerium für Forschung und Technologie
Mitwirkende(r): Resource type: Ressourcentyp: BuchBuchSprache: Deutsch Reihen: Deutschland Forschungsbericht / T ; 81-115Verlag: Eggenstein-Leopoldshafen : Fachinformationszentrum Energie, Physik, Mathematik Karlsruhe, 1981Auflage: Als Ms. gedrBeschreibung: 99 S : Ill., graph. DarstReportnummer: BMFT-FB-T-81-115Weitere Titel:- Parallelt.: Semiconductor technology for VLSI - plasma etching and high pressure oxidation
- Semiconductor technology for VLSI - plasma etching and high pressure oxidation
- 2
- Archivierung/Langzeitarchivierung gewährleistet PEBW
Dieser Titel hat keine Exemplare
Archivierung prüfen 20200919 DE-640 2 pdager
Archivierung/Langzeitarchivierung gewährleistet PEBW DE-31 pdager DE-90