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Halbleitertechnologien für Großintegration : Gasätztechnik und Hochdruckoxidationen / von Konrad Eisele ; Fraunhofer-Institut für Angewandte Festkörperphysik (IAF). Bundesministerium für Forschung und Technologie

Von: Mitwirkende(r): Resource type: Ressourcentyp: BuchBuchSprache: Deutsch Reihen: Deutschland Forschungsbericht / T ; 81-115Verlag: Eggenstein-Leopoldshafen : Fachinformationszentrum Energie, Physik, Mathematik Karlsruhe, 1981Auflage: Als Ms. gedrBeschreibung: 99 S : Ill., graph. DarstReportnummer: BMFT-FB-T-81-115Weitere Titel:
  • Parallelt.: Semiconductor technology for VLSI - plasma etching and high pressure oxidation
  • Semiconductor technology for VLSI - plasma etching and high pressure oxidation
Schlagwörter: Genre/Form: Bearbeitungsvermerk:
  • 2
  • Archivierung/Langzeitarchivierung gewährleistet PEBW
Call number: Grundsignatur: ZE 5324-1981,115.1981PPN: PPN: 01382483X
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Archivierung/Langzeitarchivierung gewährleistet PEBW DE-31 pdager DE-90

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