Halbleitertechnologien für Großintegration : Gasätztechnik und Hochdruckoxidationen / von Konrad Eisele ; Fraunhofer-Institut für Angewandte Festkörperphysik (IAF). Bundesministerium für Forschung und Technologie
Contributor(s): Resource type: Ressourcentyp: BuchBookLanguage: German Series: Deutschland Forschungsbericht / T ; 81-115Publisher: Eggenstein-Leopoldshafen : Fachinformationszentrum Energie, Physik, Mathematik Karlsruhe, 1981Edition: Als Ms. gedrDescription: 99 S : Ill., graph. DarstReport number: BMFT-FB-T-81-115Other title:- Parallelt.: Semiconductor technology for VLSI - plasma etching and high pressure oxidation
- Semiconductor technology for VLSI - plasma etching and high pressure oxidation
- 2
- Archivierung/Langzeitarchivierung gewährleistet PEBW
No physical items for this record
Archivierung prüfen 20200919 DE-640 2 pdager
Archivierung/Langzeitarchivierung gewährleistet PEBW DE-31 pdager DE-90