Selektives Wachstum von Si und SiGe mittels LPCVD im Hinblick auf vertikale MOSFET-Anwendungen / Rogér Loo. [Forschungszentrum Jülich GmbH, KFA, Institut für Schicht- und Ionentechnik]
Resource type: Ressourcentyp: BuchBookLanguage: German Series: Forschungszentrum Jülich. Berichte des Forschungszentrums Jülich ; 3328Publisher: Jülich : Forschungszentrum, Zentralbibliothek, 1996Description: X, 172 Seiten : Illustrationen, Diagramme ; 30 cmReport number: Jül-3328Subject(s): Genre/Form:
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Action note: - 2
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