Fundamentals of silicon integrated device technology. 1, Oxidation, diffusion and epitaxy / ed. by R. M. Burger ...
Resource type: Ressourcentyp: BuchBuchSprache: Englisch Gesamtaufnahme: Fundamentals of silicon integrated device technology.Verlag: Englewood Cliffs, N.J. : Prentice-Hall, 1967Beschreibung: XIV, 495 S. : IllBearbeitungsvermerk:- 2
| Medientyp | Heimatbibliothek | Standort | Signatur | Status | Barcode | |
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| Magazinbestand ausleihbar | Bibliothek Campus Süd | Geschlossenes Magazin | ZA 5352-1.1967 | Verfügbar | 15026923 | |
| Institutsbestand | IMS | Bu | Nicht ausleihbar |
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