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Plasma sources for thin film deposition and etching / ed. by Maurice H. Francombe ...

Mitwirkende(r): Resource type: Ressourcentyp: BuchBuchSprache: Englisch Reihen: Physics of thin films ; 18Verlag: San Diego [u.a.] : Acad. Press, 1994Beschreibung: XII, 328 S. : Ill., graph. DarstISBN:
  • 0125330189
Schlagwörter: Genre/Form: DDC-Klassifikation:
  • 530.82
RVK: RVK: UP 7500Bearbeitungsvermerk:
  • 3
Zusammenfassung: Lieberman, Michael A.; Design of high-density plasma sources for materials processingZusammenfassung: Popov, Oleg A.; Electron cyclotron resonance plasma sources and their use in plasma-assisted chemical vapor deposition of thin filmsZusammenfassung: Rohde, Suzanne L.; Unbalanced magnetron sputteringZusammenfassung: Steinbrüchel, Christoph; The formation of particles in thin-film processing plasmasCall number: Grundsignatur: V A 9331-18PPN: PPN: 04349613X
Exemplare
Medientyp Heimatbibliothek Sammlung Standort Signatur Status Barcode
Freihandbestand Präsenznutzung Fachbibliothek Physik phys 8.71 Bibliothek / frei aufgestellt V A 9331-18 Nicht ausleihbar 40347657
Anzahl Vormerkungen: 0

Archivierung prüfen 20200919 DE-640 3 pdager