Plasma sources for thin film deposition and etching / ed. by Maurice H. Francombe ...

Mitwirkende(r):

Francombe, Maurice H [Hrsg.]

Resource type: Ressourcentyp: BuchBuchSprache: Englisch Reihen: Physics of thin films ; 18Verlag: San Diego [u.a.] : Acad. Press, 1994Beschreibung: XII, 328 S. : Ill., graph. DarstISBN:

0125330189

Schlagwörter:

Genre/Form:

Aufsatzsammlung

DDC-Klassifikation:

530.82

RVK: RVK: UP 7500Bearbeitungsvermerk:

Zusammenfassung: Lieberman, Michael A.; Design of high-density plasma sources for materials processingZusammenfassung: Popov, Oleg A.; Electron cyclotron resonance plasma sources and their use in plasma-assisted chemical vapor deposition of thin filmsZusammenfassung: Rohde, Suzanne L.; Unbalanced magnetron sputteringZusammenfassung: Steinbrüchel, Christoph; The formation of particles in thin-film processing plasmasCall number: Grundsignatur: V A 9331-18PPN: PPN: 04349613X

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Medientyp	Heimatbibliothek	Sammlung	Standort	Signatur	Status	Barcode
Freihandbestand Präsenznutzung	Fachbibliothek Physik	phys 8.71	Bibliothek / frei aufgestellt	V A 9331-18	Nicht ausleihbar	40347657

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