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Aufbau einer Molekularstrahlepitaxie-Anlage zur Herstellung von CoSi 2/Si-Heterostrukturen und in Silizium vergrabener SiOx-Schichten sowie Charakterisierung dieser Schichtsysteme / Marcus Hacke. [Forschungszentrum Jülich GmbH, KFA, Institut für Schicht- und Ionentechnik]

Von: Resource type: Ressourcentyp: BuchBuchSprache: Deutsch Reihen: Forschungszentrum Jülich. Berichte des Forschungszentrums Jülich ; 3294Verlag: Jülich : Forschungszentrum, Zentralbibliothek, 1996Beschreibung: III, 194 Seiten : Illustrationen, Diagramme ; 30 cmReportnummer: Jül-3294Schlagwörter: Genre/Form: Bearbeitungsvermerk:
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Hochschulschriftenvermerk: Dissertation - Technische Hochschule Aachen, 1996 Call number: Grundsignatur: CN JUEL-3294PPN: PPN: 1547052767
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Magazinbestand ausleihbar Bibliothek Campus Nord Geschlossenes Magazin CN JUEL-3294 Verfügbar 51821911090
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