Aufbau einer Molekularstrahlepitaxie-Anlage zur Herstellung von CoSi 2/Si-Heterostrukturen und in Silizium vergrabener SiOx-Schichten sowie Charakterisierung dieser Schichtsysteme / Marcus Hacke. [Forschungszentrum Jülich GmbH, KFA, Institut für Schicht- und Ionentechnik]
Resource type: Ressourcentyp: BuchBuchSprache: Deutsch Reihen: Forschungszentrum Jülich. Berichte des Forschungszentrums Jülich ; 3294Verlag: Jülich : Forschungszentrum, Zentralbibliothek, 1996Beschreibung: III, 194 Seiten : Illustrationen, Diagramme ; 30 cmReportnummer: Jül-3294Schlagwörter: Genre/Form: Bearbeitungsvermerk:- 1
| Medientyp | Heimatbibliothek | Standort | Signatur | Status | Barcode | |
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| Magazinbestand ausleihbar | Bibliothek Campus Nord | Geschlossenes Magazin | CN JUEL-3294 | Verfügbar | 51821911090 |
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